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>高純?yōu)R射4N鈀靶及鈀蒸發(fā)顆粒等材料

高純?yōu)R射4N鈀靶及鈀蒸發(fā)顆粒等材料

Pd

直接聯(lián)系

北京利承創(chuàng)欣金屬材料有限公司

北京

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報(bào)價(jià):

1萬元以下

品牌:

lccx

型號:

Pd

關(guān)注度:

2180

范圍(量程或細(xì)度):

-325目

創(chuàng)新點(diǎn):

高純度,高密度,金屬陶瓷,硬質(zhì)合金,金剛石工具。

應(yīng)用行業(yè):

陶瓷工廠,科技大學(xué)。

典型用戶:

研發(fā)單位 科技大學(xué)

產(chǎn)品介紹

北京利承創(chuàng)欣金屬材料科技有限公司(簡稱:利承創(chuàng)欣)創(chuàng)建于2015年,位于北京中關(guān)村,廠房占地2500平米,是由國家科技部牽頭、多家業(yè)內(nèi)企業(yè)控股,集鍍膜材料、磁控濺射靶材研發(fā)、生產(chǎn)、銷售等為一體的綜合性鍍膜材料企業(yè)。

     利承創(chuàng)欣主要從事研發(fā)生產(chǎn)光通訊、LOW-E半導(dǎo)體、平板顯示觸摸屏、裝飾鍍膜、工具鍍膜、光伏光熱、半導(dǎo)體、LED等鍍膜材料。利承創(chuàng)欣將成熟的生產(chǎn)工藝,嚴(yán)格的生產(chǎn)規(guī)范,精良的生產(chǎn)設(shè)備相結(jié)合,在昌平區(qū)建立了研發(fā)生產(chǎn)基地。

利承創(chuàng)欣已通過ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證、ISO14001環(huán)境體系認(rèn)證及歐盟CE認(rèn)證,產(chǎn)品出口日本、美國、德國、韓國等國家,并與全球知名光電技術(shù)企業(yè)、中科院及**企業(yè)建立長期的生產(chǎn)工藝、生產(chǎn)技術(shù)、產(chǎn)品質(zhì)量控制戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系,是目前國內(nèi)鍍膜材料行業(yè)設(shè)備***、技術(shù)水平**、產(chǎn)品系列多元化的龍頭企業(yè)之一。

利承創(chuàng)欣將秉承創(chuàng)新發(fā)展至先、客戶服務(wù)至誠的使命,知崇禮卑、止于至善致力于生產(chǎn)符合國際標(biāo)準(zhǔn)的鍍膜材料。

我公司主要產(chǎn)品如下:

 高純?yōu)R射靶材(規(guī)格按要求定做 純度3-6N)

高純金屬濺射靶材

鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鐵靶Fe、鋅靶Zn、錫靶Sn、鎂靶Mg、鈷靶Co、鎳靶Ni、鈦靶Ti、金靶Au、銀靶Ag、鉑靶Pt、錸靶Re、釕靶Ru、鈀靶Pd、銠靶Rh、銥靶Ir、銦靶In、釩靶V、鎘靶Cd、鎢靶W、鉬靶Mo、鉭靶Ta、鈮靶Nb、鋯靶Zr、鉿靶Hf、鍺靶Ge、硅靶Si、錳靶Mn、鉍靶Bi、硒靶Se、硼靶B、鈣靶Ca

合金濺射靶材 (規(guī)格按要求定做

鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe

高純金屬材料/真空鍍膜材料 (純度99.9-99.9999%)

高純金屬材料/蒸發(fā)鍍膜材料(粉末/顆粒/柱/塊/絲/片 可按要求定做 純度3-6N)

金Au:高純金粒,高純金絲,高純金片,高純金粉,高純金箔,金電極,金棒,金蒸發(fā)料

銀Ag:高純銀粒,高純銀絲,高純銀片,高純銀粉,高純銀箔,銀電極,銀棒,銀蒸發(fā)料

鉑Pt:高純鉑粒,高純鉑絲,高純鉑片,高純鉑粉,高純鉑箔,鉑電極,鉑電偶絲,鉑蒸發(fā)料

鈀Pd: 高純鈀粒,高純鈀絲,高純鈀片,高純鈀粉,鈀電極,鈀箔,鈀蒸發(fā)料

錸Re:高純錸粒,高純錸片,高純錸粉,錸蒸發(fā)料

銠Rh:高純銠粒,高純銠絲,高純銠粉,銠電極,銠蒸發(fā)料

釕Ru:高純釕粒,高純釕絲,高純釕片,高純釕粉,釕電極,釕蒸發(fā)料

銥Ir:高純銥粒,高純銥絲,高純銥片,高純銥粉,銥電極,銥蒸發(fā)料

鋁Al:高純鋁粒,高純鋁絲,高純鋁片,高純鋁箔,高純鋁粉,高純鋁棒,高純鋁塊,鋁電極,鋁蒸發(fā)料

銅Cu:高純銅粒,高純銅絲,高純銅片,高純銅箔,高純銅粉,高純銅塊,銅電極,銅蒸發(fā)料

鉻Cr:高純鉻粒,高純鉻粉,高純鉻片,高純鉻塊,高純鉻條,低氧鉻粉,鉻蒸發(fā)料

鈷Co:高純鈷粒,高純鈷粉,高純鈷片,高純鈷板,高純鈷塊,電解鈷,鈷蒸發(fā)料

鉿Hf:高純鉿粉,高純鉿粒,高純鉿絲,高純鉿片,高純鉿板,低鋯鉿粉,鉿蒸發(fā)料

鎘Cd:高純鎘粒,高純鎘粉,高純鎘絲,高純鎘管,高純鎘錠,鎘蒸發(fā)料

鎢W: 高純鎢粒,高純鎢粉,高純鎢片,高純鎢箔,高純鎢絲,鎢舟,鎢絞絲,鎢蒸發(fā)源,鎢蒸發(fā)料

鉬Mo:高純鉬粒,高純鉬片,高純鉬箔,高純鉬粉,高純鉬絲,高純鉬板,鉬舟,鉬蒸發(fā)料

硅Si:高純硅粒,高純硅片,高純硅粉,單晶硅,多晶硅,多晶硅片,硅襯底,N型硅,P型硅,本征硅,硅蒸發(fā)料

鍺Ge:高純鍺粒,高純鍺粉,高純鍺片,高純鍺棒,高純鍺塊,鍺蒸發(fā)料

錳Mn:高純錳片,高純錳粉,高純錳塊,錳蒸發(fā)料

鎂Mg:高純鎂粒,高純鎂粉,高純鎂絲,高純鎂片,高純鎂棒,高純鎂塊,鎂蒸發(fā)料

鈮Nb:高純鈮粒,高純鈮粉,高純鈮片,高純鈮箔,高純鈮絲,高純鈮板,高純鈮塊,高純鈮棒,鈮蒸發(fā)料

錫Sn:高純錫粒,高純錫球,高純錫粉,高純錫絲,高純錫片,高純錫箔,錫蒸發(fā)料

銻Sb:高純銻粒,高純銻塊,高純銻fen,高純銻錠,銻蒸發(fā)料

鋅Zn:高純鋅粒,高純鋅絲,高純鋅片,高純鋅板,高純鋅粉,鋅陽極,鋅蒸發(fā)料

釩V :高純釩粒,高純釩fen,高純釩片,高純釩絲,電解釩粒,釩蒸發(fā)料

鐵Fe:高純鐵粒,高純鐵粉,高純鐵片,高純鐵絲,霧化鐵粉,電解鐵粉,高純鐵板,高純鐵塊,鐵蒸發(fā)料

鈦Ti:高純鈦片,高純鈦粒,高純鈦片,高純鈦箔,高純鈦粉,高純鈦絲,海綿鈦,碘化鈦,高純鈦板,高純鈦棒,進(jìn)口鈦原料,鈦蒸發(fā)料

鋯Zr:高純鋯粉,高純鋯粒,高純鋯片,高純鋯箔,高純鋯絲,高純鋯塊,海綿鋯,碘化鋯,鋯蒸發(fā)料

碲Te:高純碲粒,高純碲塊,高純碲粉,高純碲錠,碲蒸發(fā)料

鎳Ni:高純鎳粒,高純鎳片,高純鎳箔,高純鎳粉,高純鎳絲,高純鎳柱,高純鎳板,高純鎳塊,鎳電極,鎳蒸發(fā)料

鉭Ta: 高純鉭粒,高純鉭片,高純鉭箔,高純鉭絲,高純鉭粉,高純鉭塊,鉭舟,鉭蒸發(fā)料

鎵Ga:高純鎵塊,高純鎵試劑,高純鎵錠,鎵蒸發(fā)料

鉍Bi:高純鉍粒,高純鉍塊,高純鉍粉,高純鉍錠,鉍蒸發(fā)料

銦In:高純銦絲,高純銦粒,高純銦球,高純銦片,高純銦箔,高純銦粉,銦電極,銦蒸發(fā)料

硒Se:高純硒粒,高純硒塊,高純硒片,高純硒粉,高純硒錠,硒蒸發(fā)料

鈣Ca:高純鈣粒,高純鈣粉,高純鈣棒,高純鈣蒸發(fā)料

硼B(yǎng) :高純硼粒,高純硼塊,高純硼片,高純硼粉,硼蒸發(fā)料

La:高純鑭粒,高純鑭塊,高純鑭粉,高純鑭錠

鐠Pr:高純鐠粒,高純鐠塊,高純鐠粉,高純鐠錠

釹Nd:高純釹粒,高純釹塊,高純釹粉,高純釹錠

釓Gd:高純釓粒,高純釓塊,高純釓粉,高純釓錠

鈰Ce:高純鈰粒,高純鈰塊,高純鈰錠,高純鈰粉

鉺Er:高純鉺粒,高純餌塊,高純鉺粉,高純鉺錠

鋱Tb:高純鋱粒,高純鋱塊,高純鋱粉,高純鋱錠

鈥Ho:高純鈥粒,高純鈥塊,高純鈥粉,高純鈥錠

釔Y: 高純釔粒,高純釔塊,高純釔粉,高純釔錠

鐿Yb:高純鐿粒,高純鐿塊,高純鐿粉,高純鐿錠

銩Tm:高純銩粒,高純銩塊,高純銩粉,高純銩錠

釤Sm: 高純釤粒,高純釤塊,高純釤粉,高純釤錠

鏑Dy:高純鏑粒,高純鏑塊,高純鏑粉,高純鏑錠

镥Lu:高純镥粒,高純镥塊,高純镥粉,高純镥錠

高純氧化物/蒸發(fā)鍍膜材料 (顆粒、粉末 純度3-5N)

  氧化鋁(Al2O3),氧化釹(Nd2O3),氧化銻(Sb2O3),五氧化二鈮(Nb2O5),氧化錫摻銻(ATO),氧化鐠(Pr6O11),鈦酸鋇(BaTiO3),鈦酸鐠(PrTiO2),氧化鉍(Bi2O3),氧化鐠(Pr2O3),二氧化鈰(CeO2),氧化釤(Sm2O3),氧化銅(CuO),氧化鈧(Sc2O3),氧化鉻(Cr2O3),二氧化硅(SiO2),氧化鏑(Dy2O3),一氧化硅(SiO),氧化鉺(Er2O3),鈦酸鍶(SrTiO3),氧化銪(Eu2O3),鋯酸鍶(SrZrO3),氧化釓(Gd2O3),五氧化二鉭(Ta2O5),氧化鎵(Ga2O3),氧化鋱(Tb4O7),氧化鍺(GeO2),氧化碲(TeO2),氧化鉿(HfO2),氧化釷(ThO2),氧化鈥(Ho2O3),氧化銩(Tm2O3),氧化銦(In2O3),二氧化鈦(TiO2),氧化銦錫化合物(ITO),一氧化鈦(TiO),氧化鐵(Fe2O3),五氧化三鈦(Ti3O5),四氧化三鐵(Fe3O4),三氧化二鈦(Ti2O3),氧化鑭(La2O3),氧化錫(SnO2),鋁酸鑭(LaAlO3),一氧化錫(SnO),鈦酸鉛(PbTiO3),三氧化鎢(WO3),鋯酸鉛(PbZrO3),五氧化二fan(V2O5),鈮酸鋁(LiNbO3),釔鋁石榴石(YAG)Y3Al5O12,氧化鋰(LiO),三氧化二鐿(Yb2O3),鉭酸鋰(LiTaO3),三氧化二釔(Y2O3),氧化鋅(ZnO),氧化镥(Lu2O3),氧化鋅摻鋁(ZnO:Al),氧化鎂(MgO),二氧化鋯(ZrO2)(未摻雜),二氧化錳(MnO2),氧化鈣穩(wěn)定二氧化鋯(ZrO2-5-15wt%CaO),鈦酸鎂(MgTiO3),氧化釔穩(wěn)定二氧化鋯(ZrO2摻雜Y2O3),氧化鉬(MoO3)。

高純氟化物/蒸發(fā)鍍膜材料 (顆粒、粉末 純度3-6N)

  氟化鋁(AlF3),氟化鐠(PrF3),氟化鋇(BaF3),氟化鎂(MgF2),氟化鉻(CdF2),氟化釹(NdF3),氟化鈣(CaF2),氟化鈰(CeF3),氟化釤(SmF3),氟化鏑(DyF3),氟化鈉(NaF),氟化鉺(ErF3),冰晶石(Na3AlF6),氟化鉿(HfF4),氟化鍶(SrF2),氟化鉀(KF),氟化釷(ThF4),氟化鑭(LaF3),氟化釔(YF3),氟化鉛(PbF2),氟化鐿(YbF3),氟化鋰(LiF) 

其他材料/蒸發(fā)鍍膜材料 (顆粒、粉末 純度3-6N)

  氮化鋁(AlN),鈦酸鎂(MgTiO3),鐵酸鋇(BaFeO3),氮化鈮(NbN),鈦酸鋇(BaTiO3),銻化銦(InSb),鈦酸鉍(BiTiO3),鈦酸鐠(PrTiO3),氮化硼(BN),氮化硅(Si3N4),硫化鎘(CdS),碳化硅(SiC),碲化鎘(CdTe),鈦酸鍶(SrTiO3),鍍鉻鎢條,氮化鉭(TaN),冰晶石(Na3AlF6),碳化鉭(TaC),砷化鎵(GaAs),二硼化鈦(TiB2),氮化鉿(HfN),碳化鈦(TiC),硼化鐵(FeB),氮化鈦(TiN),鋁酸鑭(LaAlO3),碲化鉛(PbTe),碳化鎢(WC),六硼化鑭(LaB6),鐵酸釔(YFe2O3),鉭酸鋰(LiTaO3),YBC,鈦酸鑭(LaTiO3),硒化鋅(ZnSe),鈮酸鋰(LiNbO3),碲化鋅(ZnTe),硫化鉛(PbS),硫化鋅(ZnS) 

   高純?yōu)R射靶材(規(guī)格按要求定做 純度3-6N)

高純金屬濺射靶材

鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鐵靶Fe、鋅靶Zn、錫靶Sn、鎂靶Mg、鈷靶Co、鎳靶Ni、鈦靶Ti、金靶Au、銀靶Ag、鉑靶Pt、錸靶Re、釕靶Ru、鈀靶Pd、銠靶Rh、銥靶Ir、銦靶In、釩靶V、鎘靶Cd、鎢靶W、鉬靶Mo、鉭靶Ta、鈮靶Nb、鋯靶Zr、鉿靶Hf、鍺靶Ge、硅靶Si、錳靶Mn、鉍靶Bi、硒靶Se、硼靶B、鈣靶Ca

合金濺射靶材 (規(guī)格按要求定做

鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe

陶瓷靶材 (規(guī)格按要求定做)

ITO靶材、AZO靶材、IGZO靶材、氧化鎂靶材MgO、氧化釔靶材Y2O3、氧化鐵靶材Fe2O3、氧化鎳靶材Ni2O3、氧化鉻靶材Cr2O3、氧化鋅靶材ZnO、硫化鋅靶材ZnS、硫化鎘靶材CdS、硫化鉬靶材MoS2、二氧化硅靶材SiO2、一氧化硅靶材SiO、二氧化鋯靶材ZrO2、五氧化二鈮靶材Nb2O5、二氧化鈦靶材TiO2、二氧化鉿靶材HfO2、二硼化鈦靶材TiB2、二硼化鋯靶材ZrB2、三氧化鎢靶材WO3、三氧化二鋁靶材Al2O3、五氧化二鉭靶材Ta2O5、氟化鎂靶材MgF2、硒化鋅靶材ZnSe、氮化鋁靶材AlN、氮化硅靶材Si3N4、氮化硼靶材BN、氮化鈦靶材TiN、碳化硅靶材SiC、鈮酸鋰靶材LiNbO3、鈦酸鐠靶材PrTiO3、鈦酸鋇靶材BaTiO3、鈦酸鑭靶材LaTiO3、鈦酸鍶靶材SrTiO3等高密度陶瓷濺射靶材.

稀土靶材

釓靶Gd、釤靶Sm、碲靶Te、鏑靶Dy、鈰靶Ce、釔靶Y、鑭靶La、銻靶Sb、鐿靶Yb、鉺靶Er、鋱靶Tb、鈥靶Ho、銩靶Tm、釹靶Nd、鐠靶Pr、镥靶Lu

稀土陶瓷靶

氧化鑭靶La2O3、氧化鈰靶CeO2、氧化鐠靶Pr6O11、氧化釹Nd2O3、氧化釤靶Sm2O3、氧化釹靶Nd2O3、氧化鉺Er2O3靶、氧化銩靶Tm2O3、氧化鈥靶Ho2O3、氧化銪靶Eu2O3等稀土陶瓷靶材

純度:99.9%—99.9999%。尺寸:圓形靶材常規(guī)為直徑2英寸,直徑3英寸,厚度為3-10mm,或者根據(jù)客戶要求加工規(guī)格尺寸。方形靶材可根據(jù)要求進(jìn)行加工


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高純?yōu)R射4N鈀靶及鈀蒸發(fā)顆粒等材料

Pd

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