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Nano-inXider：針對(duì)納米材料表征的綜合解決方案

得益于Xeuss 2.0的研發(fā)，Nano-inXider采用了垂直光路系統(tǒng)，緊湊易用的設(shè)計(jì)使得它可適應(yīng)任意實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。

高性能

Nano-inxider繼承了Xeuss 2.0的優(yōu)點(diǎn)：

1. 獨(dú)特的純凈光技術(shù)，具有****的測(cè)試性能；

2. 測(cè)試環(huán)境的全真空內(nèi)腔設(shè)計(jì)；

3. 集成新一代Dectris的混合像素探測(cè)器。

易用

Nano-inXider具有超大的樣品腔，以方便對(duì)樣品進(jìn)行操作。所有樣品架都配備了通用的快速接口，在樣品環(huán)境變換時(shí)無(wú)需對(duì)樣品位置進(jìn)行調(diào)整。強(qiáng)大的控制軟件，僅需輕點(diǎn)幾次鼠標(biāo)，即可對(duì)光路和系統(tǒng)設(shè)定進(jìn)行快速自動(dòng)調(diào)節(jié)，可確保系統(tǒng)永遠(yuǎn)在*適合實(shí)驗(yàn)要求的狀態(tài)下工作。

緊湊的設(shè)計(jì)

 如同常見(jiàn)的電子顯微鏡等分析工具一樣，Nano-inXider具有垂直設(shè)計(jì)的架構(gòu)。垂直設(shè)計(jì)的架構(gòu)集成了所有的配件，Nano-inXider成為市場(chǎng)上占地面積很小的X射線散射設(shè)備，占地面積小于1m²。

Nano-inXider配備了多種樣品架，包括固體、粉末、液體、凝膠等。亦可在不同狀態(tài)下進(jìn)行測(cè)試，例如拉伸、溫度、濕度以及剪切。Nano-inXider還可裝配液體樣品自動(dòng)進(jìn)樣器，來(lái)對(duì)樣品進(jìn)行批量測(cè)試。

功能強(qiáng)大、易用的軟件套裝

Nano-inXider配備了集數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理和數(shù)據(jù)分析于一體的軟件系統(tǒng)。強(qiáng)大的數(shù)據(jù)采集軟件，只需輕點(diǎn)鼠標(biāo)，即可設(shè)置所有采集參數(shù)，控制多個(gè)樣品的連續(xù)測(cè)試，實(shí)現(xiàn)設(shè)備使用效率的**化。數(shù)據(jù)處理和分析軟件操作簡(jiǎn)單易用，并且包含結(jié)構(gòu)參數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)。可通過(guò)圖形化界面快速地將Nano-inXider采集的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為更強(qiáng)大的數(shù)據(jù)分析軟件所使用的標(biāo)準(zhǔn)文件，例如ATSAS和SASfit。

主要優(yōu)點(diǎn)&特點(diǎn)：

1、直接從樣品到結(jié)果
通過(guò)Nano-inXider智能化的設(shè)計(jì)，只需將您的樣品放置在樣品倉(cāng)里即可。然后就能得到結(jié)果。過(guò)程非常簡(jiǎn)單快捷。

樣品
操作簡(jiǎn)單。只需將您的樣品放置在樣品倉(cāng)里即可。儀器可進(jìn)行自動(dòng)校準(zhǔn)，無(wú)需用戶干預(yù)。

測(cè)試
自動(dòng)快捷的數(shù)據(jù)采集流程。X射線散射數(shù)據(jù)自動(dòng)歸一化，無(wú)需用戶校準(zhǔn)。這是通過(guò)一個(gè)嵌入到全自動(dòng)設(shè)備中的強(qiáng)大軟件套件，以及獨(dú)特的固定雙探測(cè)器配置來(lái)實(shí)現(xiàn)的。

分析
儀器實(shí)時(shí)顯示的精確散射數(shù)據(jù)可用于進(jìn)行實(shí)時(shí)快速的樣品反饋，或使用我們的XSACT軟件進(jìn)行進(jìn)一步的輔助分析。分析功能選擇廣泛，只需點(diǎn)擊幾次就能快速獲得納米結(jié)構(gòu)參數(shù)。

報(bào)告
XSACT生成的高質(zhì)量可發(fā)表的圖表，可以通過(guò)拖放或保存文件輕松地導(dǎo)出到其他文檔。

節(jié)約時(shí)間
Nano-inXider能更快獲取結(jié)果更簡(jiǎn)單地進(jìn)行數(shù)據(jù)分析
簡(jiǎn)單易用。智能化的設(shè)計(jì)可以使研究小角散射的學(xué)者，研究材料科學(xué)的科學(xué)家及技術(shù)人員快速掌握。
具有完全的遠(yuǎn)程操作能力和自動(dòng)校準(zhǔn)，Nano-inXider將人為誤差降到*低，并保證重現(xiàn)性和測(cè)量可追溯性。
是開(kāi)放操作實(shí)驗(yàn)室的理想選擇。

+ Nano-inXider全自動(dòng)工作流程
Nano-inXider數(shù)據(jù)采集軟件具有以下用戶友好的互動(dòng)界面:
- 在采集過(guò)程中實(shí)時(shí)查看2D和1D數(shù)據(jù)
- 自動(dòng)校準(zhǔn)
- 可追溯測(cè)試過(guò)程

無(wú)需任何用戶干預(yù)，自動(dòng)工作流程可以進(jìn)行以下所有數(shù)據(jù)處理
- 從2D圖像到1D曲線的數(shù)據(jù)還原
- **強(qiáng)度歸一化
- 自動(dòng)降低宇宙背景來(lái)減少寄生散射的影響

+ XSACT分析軟件
XSACT：X射線散射分析和計(jì)算工具
- 智能工作流程和用戶體驗(yàn)
- 強(qiáng)大的數(shù)據(jù)分析算法組成
- 高質(zhì)量可直接發(fā)表數(shù)據(jù)圖

2、高精度高動(dòng)態(tài)范圍測(cè)量
獲取可信賴的數(shù)據(jù)，將您的注意力集中在科學(xué)和數(shù)據(jù)解釋上。
Nano-inXider可以通過(guò)測(cè)量透過(guò)樣品的強(qiáng)直通光和樣品的低散射強(qiáng)度信號(hào)來(lái)獲得高信噪比數(shù)據(jù)。
通過(guò)先進(jìn)的無(wú)beamstop數(shù)據(jù)采集進(jìn)行直通光測(cè)量，自動(dòng)處理數(shù)據(jù)并獲得準(zhǔn)確度高的**強(qiáng)度。純凈光技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)同時(shí)檢測(cè)低強(qiáng)度信號(hào)和高強(qiáng)度信號(hào)。
強(qiáng)度采集的高動(dòng)態(tài)范圍直接影響數(shù)據(jù)質(zhì)量：
- 能夠檢測(cè)弱散射樣品的低強(qiáng)度散射信號(hào)
- 定量獲得粒子數(shù)、摩爾質(zhì)量、濃度、比表面積等參數(shù)
- 探測(cè)大特征尺寸，無(wú)需用戶進(jìn)行數(shù)據(jù)處理

+ 純凈光技術(shù)適用于高動(dòng)態(tài)范圍測(cè)量
Nano-inXider通過(guò)在先進(jìn)組件和儀器設(shè)計(jì)上長(zhǎng)達(dá)15年的研發(fā)，達(dá)到了在樣品上高X射線通量與儀器產(chǎn)生的低寄生散射的**平衡。
純凈光技術(shù)具有以下主要組件和特點(diǎn)：
- 微聚焦密封管光源(30W)與單次反射多層膜聚焦鏡結(jié)合
- 自動(dòng)無(wú)散射準(zhǔn)直技術(shù)
- 儀器從聚焦鏡到探測(cè)器傳感層全部在真空環(huán)境中
- 高效低噪聲混合像素光子計(jì)數(shù)探測(cè)器
- 無(wú)窗口膜的SAXS探測(cè)器

+ 無(wú)beamstop采集可得到高質(zhì)量數(shù)據(jù)
Nano-inXider無(wú)需任何beamstop就可以進(jìn)行SAXS測(cè)量，還可以同時(shí)采集透過(guò)樣品的直通光和非常低強(qiáng)度散射信號(hào)。
通過(guò)先進(jìn)的無(wú)beamstop數(shù)據(jù)采集可實(shí)現(xiàn)高動(dòng)態(tài)范圍的數(shù)據(jù)收集。
在整個(gè)的采集過(guò)程中記錄直通光，使透射測(cè)試更準(zhǔn)確，從而使**散射強(qiáng)度校正更準(zhǔn)確。
另外，被測(cè)量的直通光（分辨率函數(shù)）會(huì)被整合到數(shù)據(jù)分析中來(lái)提高測(cè)量結(jié)果的質(zhì)量。
Xenocs無(wú)beamstop數(shù)據(jù)采集實(shí)現(xiàn)了取決于樣品的自動(dòng)qmin測(cè)量，并且消除了beamstop邊緣的寄生散射，從而在低q區(qū)域獲得高質(zhì)量數(shù)據(jù)。

+ 降低宇宙背景
自動(dòng)去除宇宙背景可以減少環(huán)境寄生散射的影響。

3、同時(shí)從原子級(jí)別到納米尺寸
無(wú)需重復(fù)SAXS和WAXS測(cè)試，您可以在一次曝光內(nèi)同時(shí)得到所有測(cè)量結(jié)果。
Nano-inXider獨(dú)特的智能化雙探測(cè)器設(shè)計(jì)，可以在一次曝光內(nèi)同時(shí)檢測(cè)到原子尺度信息和納米結(jié)構(gòu)。設(shè)備占地面積小的垂直設(shè)計(jì)，樣品到探測(cè)器距離長(zhǎng)，可以測(cè)量大的特征尺寸。
這些配置可以提供以下獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)：
- 您可以在一次曝光內(nèi)獲得納米結(jié)構(gòu)信息和原子尺度信息。無(wú)需重復(fù)實(shí)驗(yàn)。
- 由于在SAXS和WAXS中分析的是相同體積的樣品，因此對(duì)于非均勻樣品也能獲得明確的數(shù)據(jù)。
- 在原子和納米尺度上探測(cè)樣品結(jié)構(gòu)是完全同步的，這對(duì)于原位研究是必要的。

+ 雙固定探測(cè)器設(shè)計(jì)便于同時(shí)進(jìn)行SAXS和WAXS測(cè)量
Nano-inXider的樣品和探測(cè)器都是固定的。可選的WAXS探測(cè)器配置擴(kuò)大了散射范圍，可以無(wú)縫銜接SAXS探測(cè)器，得到的數(shù)據(jù)達(dá)到2θ=60°。
這獨(dú)特的垂直設(shè)計(jì)有以下優(yōu)勢(shì)：
- 杜絕配置選錯(cuò)的可能，真正的易于操作。 
- SAXS和WAXS數(shù)據(jù)部分重疊，獲取完整q值范圍內(nèi)強(qiáng)度**匹配的合并數(shù)據(jù)。
- 無(wú)需校準(zhǔn)或調(diào)整樣品到探測(cè)器距離。
- 同時(shí)對(duì)原子尺度和納米尺度結(jié)構(gòu)進(jìn)行了探測(cè)，可以為原位研究提供清晰的數(shù)據(jù)。

+ 虛擬探測(cè)器能夠增大各向異性樣品或纖維的方位角覆蓋
對(duì)于纖維或取向薄膜等各向異性樣品，Nano-inXider配備一個(gè)樣品旋轉(zhuǎn)臺(tái)可以獲得各向異性散射信號(hào)。自動(dòng)采集包括以下步驟:
- 在連續(xù)曝光期間，樣品臺(tái)圍繞X射線旋轉(zhuǎn)
- 自動(dòng)合并獲得的圖像
- 展示高方位角的2D圖譜（儀器檢測(cè)的所有q范圍，即使高達(dá)2θ=60°，方位角覆蓋都大于200°）

4、低成本
通過(guò)每天獲得的納米級(jí)信息，來(lái)加快您的材料加工流程或驗(yàn)證您的研究模型。
- 高回報(bào)
- 儀器的垂直設(shè)計(jì)減少了占用的實(shí)驗(yàn)室空間
- 方便技術(shù)人員操作
- 儀器的高使用率帶來(lái)了科研成果的高產(chǎn)率
- 更環(huán)保
Nano-inXider低成本的特點(diǎn)主要得益于它的緊湊型設(shè)計(jì)和操作成本低。

+ 緊湊型儀器
- 占地面積 < 1×1 m2
- 重量 ≈ 520 kg
- 一體化設(shè)備
- 容易安裝水平樣品

+ 操作成本低
- 平均功耗低 ≈ 700 W
- 儀器兩年質(zhì)保
- 質(zhì)保三年的免維護(hù)光源
- 簡(jiǎn)潔且堅(jiān)固