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IoN 100WB-40Q是我們**推出的具有高性價比的真空等離子去膠設備。它來源于IoN 100-40Q，IoN 100WB-40Q延續了同樣的高品質保障，包括可選壓力控制器、光譜終點檢測器等豐富配置選擇。

IoN 100WB-40Q配備了一個圓筒石英腔，特別適用于半導體、LED、MEMS等領域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物刻蝕、表面清潔等應用的批次處理。

IoN 100 WB旨在滿足客戶的生產需求，著重于表面處理的多功能性和可控性。其先進的性能提供了出色的工藝控制、失效報警系統和數據采集軟件。這使得該設備可滿足半導體、LED、MEMS等領域嚴格的程序控制要求。IoN 100 WB結構緊湊，集成度高，采用射頻（RF）頻率激發等離子體。

先進的功能特性：
●  低微粒石英腔體

●  觸摸屏操作，圖形用戶界面（GUI）

●  使用Windows系統的工業計算機控制

●  工藝員、操作元、維護員訪問權限控制

●  自診斷功能和警報記錄功能，聯網在線診斷功能

●  以太網遠程控制功能

●  工藝編輯軟件提供了快速靈活的步驟控制功能

●  可隔墻安裝

●  可選配光譜終點檢測功能

規格參數 
工作腔室材料                                    石英
腔門材質                                           鋁（標配）
腔體尺寸                                           直徑304 mm，深508mm

**可處理晶圓尺寸                         8”

**處理量                                       50片6”

裝料方式                                           手動
　　　　　　　   

工藝氣體 
質量流量控制計                                *多至6路氣體
工藝壓力                                           200-2000 mTorr(取決于真空泵和氣體流量)
抽真空時間                                       大約1分鐘 (取決于真空泵)

射頻電源                                           風冷13.56MHz,600 瓦(標準配置)
供給需求電源　　　　　                 220V 單相, 50Hz
工藝氣體                                          輸入壓力 1-2 bar
吹掃氣體                                          輸入壓力 1-2 bar
壓縮空氣                                          輸入壓力 4-6 bar

機體

●  獨立的機體帶有所有電源和氣體接口
●  帶有旋轉墊腳的可轉動機身

設備尺寸
標準尺寸                                           1067 x 737 x 1524 mm（寬/高/深，不含泵）
重量                                                   約204千克（不含泵）

可選項

● 壓力控制器
● 1%精度的真空規

● 石英腔門
● 指示燈柱
● 條形碼閱讀器
● 工藝氣體切換器
● 光譜終點檢測器

● 耐腐蝕性氣體的MFC
● 1000 瓦13.56 MHz射頻發生器
● 真空泵（油泵或干泵）