粉體行業在線展覽
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CAS-59AQ
直接聯系
美國Quantum Design公司
美國
面議
Quantum Design
CAS-59AQ
2179
? 可以在10s內加熱到超高溫1800℃；
? 可以加熱后直接水淬；
? 紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成；
? 緊湊的桌面型設計；
? 通過USB與電腦連接，輸入溫度參數；
? 在加熱過程中，在電腦屏幕顯示溫度。
日本Advance Riko公司推出的桌面式超高溫高速退火爐以大功率點聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃，可對SiC以及其它高熔點材料進行退火處理。
應用領域
? SiC氧化膜的生成和激活；
? 半導體開發與研究；
? 玻璃基板、陶瓷、復合材料等的熱處理；
? 作為熱處理爐對高熔點材料進行熱處理；
? 陶瓷材料的熱沖擊測試。
產品特點
? 可以在10s內加熱到超高溫1800℃；
? 可以加熱后直接水淬；
? 紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成；
? 緊湊的桌面型設計；
? 通過USB與電腦連接，輸入溫度參數；
? 在加熱過程中，在電腦屏幕顯示溫度。
基本參數
溫度范圍：室溫-1800℃
樣品尺寸：W15mm×L15mm×T1mm
樣品支架：氧化鋁或者高純碳
加熱氛圍：多種
熱電偶：JIS B φ0.3 （W-Re可選）
臺式高精度薄膜制備與加工系統
新型SPS技術-直流型等離子燒結(DCS)
小而輕的便攜式X射線殘余應力分析儀-μ-X360s
多鐵材料磁電測量系統 –SuperME
石墨烯/二維材料電學性質非接觸快速測量系統-ONYX
自動熱處理爐陶瓷熱處理爐
實驗室真空高溫爐
CAS-59AQ
納米傅里葉紅外光譜儀-Nano-FTIR
微秒級時間分辨超靈敏紅外光譜儀
