粉體行業(yè)在線展覽
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Picarro G2308 N2O CH4 H2O氣體濃度分析儀
通過同時測量土壤排放物中的三種重要溫室氣體（N2O、CH4和 H2O），從根本上簡化了土壤通量研究。土壤和大氣之間的溫室氣體交換是全球氮和碳循環(huán)中的關(guān)鍵步驟。
G2308 采用閉路或開路配置輕松與土壤呼吸室進行集成，無需裝配和同步單獨的氣體分析儀來觀察所有主要溫室氣體的行為。
該分析儀采用精確的光腔衰蕩光譜 (CRDS) 技術(shù)，可同時實時測量原位氣體濃度，靈敏度可達十億分之一 (ppb)，所產(chǎn)生的漂移可忽略不計。
G2308 采用 Picarro 獨特的軟件算法來自動進行水汽校正。以百萬分之一 (ppm) 的精度來測量水汽，從而以干氣摩爾分?jǐn)?shù)來校正和報告 N2O 和 CH4 濃度。
G2308 在空氣中的性能規(guī)格 | |||
規(guī)格 | N2O | CH4 | H2O |
原始精度 (1σ) | < 25 ppb + 0.05%讀數(shù) | < 10 ppb + 0.05%讀數(shù) | < 500 ppm |
1 分鐘時的精度 (1σ) | < 10 ppb + 0.05%讀數(shù) | < 7 ppb + 0.05%讀數(shù) | < 250 ppm |
5 分鐘時的精度 (1σ) | < 3.5 ppb + 0.008%讀數(shù) | < 3 ppb + 0.02%讀數(shù) | < 100 ppm |
確保規(guī)格范圍 | 0.3 - 200 ppm | 1 - 15 ppm | 0 - 3% |
工作范圍 | 0 - 400 ppm | 0 - 20 ppm | 0 - 7% |
測量速度 | < 6 秒 | < 10 秒 | < 8 秒 |
典型氣體響應(yīng) | < 10 秒 | < 10 秒 | - |
分析儀特異性：Picarro 的光腔衰蕩光譜 (CRDS) 技術(shù)采用極窄的光譜區(qū)域。與其他光譜測量技術(shù)相比，這大大降低了其他氣體組分產(chǎn)生干擾的可能性。但在實際樣品中，干擾時有發(fā)生。Picarro 分析儀附裝有干擾檢測軟件，并就該分析儀受以下組分的影響進行了測試和表征：
痕量氣體 | N2O 受干擾的敏感度 |
二氧化碳 | 無 - 自動校正至 20000 ppm CO2 |
甲烷 | 無 - 自動校正至 200 ppm CH4 |
氨 | 無 - 自動校正至 2 ppm NH3 |
乙烷 | 0.2 ppb N2O / ppm C2H6，測試至 120 ppm |
乙烯 | 0.5 ppb N2O / ppm C2H4，測試至 16 ppm |
乙炔 | 不適用于乙炔實驗 |
背景氣體 | 設(shè)計用于環(huán)境氣體，不適用于高度變化或濃縮的 N2、O2、H2 或 He背景氣體 |
ChemDetect™ 軟件 | 獨特的 Picarro 算法能夠檢測和標(biāo)記因光譜干擾導(dǎo)致可能不準(zhǔn)確的數(shù)據(jù) |
G2308 系統(tǒng)運行參數(shù) | 規(guī)格 |
環(huán)境溫度 | 10 - 35°C |
環(huán)境濕度 | 相對濕度 (RH) 小于 99%，無冷凝條件下 |
樣品壓強 | 300 至 1000 托（40 至 133 千帕） |
樣品流量 | 約 230 標(biāo)準(zhǔn)毫升每分鐘 (sccm) |
樣品濕度 | 相對濕度 (RH) 小于 99%，無冷凝條件下，水校正測試至 25°C 露點 |
樣品溫度 | -10 - 45°C |
腔體溫度控制 | +/- 0.005°C |
腔體壓強控制 | +/- 0.0002 大氣壓 |
閉路/ 循環(huán)能力 | 與 Picarro 封閉系統(tǒng)泵 A0702 兼容 |
進氣口接頭 | ?英寸 Swagelok® |
外形尺寸 | 17英寸寬 x 7英寸高 x 17.5英寸長 (43.2 x 17.8 x 44.6 厘米)，不包括 0.5英寸的支腳 |
重量 | 50 磅 (22.6 千克) |
電源要求 | 100 - 240 伏交流電，47 - 63 Hz（自動偵測），啟動時小于260 W；穩(wěn)態(tài)時為 110 W |
安裝形式 | 工作臺（標(biāo)準(zhǔn)）或 19 英寸機架式安裝底盤（選配） |
附件 | 隨附：鍵盤、鼠標(biāo)。選配：LCD 監(jiān)視器。不含：真空泵 |
選件 | A0702，Picarro 封閉系統(tǒng)泵 S0528，O2 傳感器，用于 O2 的測量以及在O2不斷變化的環(huán)境中起校正作用 S0517， CH4的擴展工作范圍可達 800 ppm |
