粉體行業(yè)在線展覽
粉體行業(yè)在線展覽
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備.
直接聯(lián)系
北京泰科諾科技有限公司
北京
面議
北京泰科諾
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備.
150
設(shè)備型號：ZHD300
鍍膜方式：多源金屬蒸發(fā)
真空腔室結(jié)構(gòu)：玻璃鐘罩 + 不銹鋼底座
真空腔室尺寸：Φ300mm×H360mm
加熱溫度：室溫～ 250℃
基片臺尺寸：Φ100mm
膜厚不均勻性：Φ80mm 范圍內(nèi)≤ ±5.0%
蒸發(fā)源：2組金屬蒸發(fā)源
控制方式：PLC + 觸摸屏控制
占地面積：主機 L1100mm×W800mm
總功率：≥ 5kW
適用范圍：大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備
1. 設(shè)備一體化設(shè)計，占地面積小，性價比高，性能穩(wěn)定，使用維護成本低；
2. 設(shè)備配備多組蒸發(fā)源，兼容有機蒸發(fā)與無機蒸發(fā) , 多源共蒸獲得復(fù)合膜。設(shè)計專業(yè)，功能強大，性能穩(wěn)定；
3. 適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、有機膜，也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗等。
納米超硬膜涂層設(shè)備GDM1000
納米超硬膜涂層設(shè)備GDM900
粉體鍍膜設(shè)備JGCF1000
粉體鍍膜設(shè)備JGCF800
粉體鍍膜設(shè)備JGCF350
真空退火爐/釬焊爐VTHK550
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP500 高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備TEMD600
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHDS500
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHDS400
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHD600
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備.
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
