粉體行業(yè)在線展覽
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芯矽科技
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EPC(Edge Processing and Control)部件清洗設(shè)備專為半導(dǎo)體制造、光伏及精密電子行業(yè)中的關(guān)鍵零部件設(shè)計(jì),針對(duì)射頻器件、傳感器、功率芯片等EPC模塊表面的光刻膠殘留、金屬顆粒、氧化物及有機(jī)物污染,提供高效、無(wú)損的清洗解決方案。該設(shè)備通過(guò)化學(xué)濕法清洗與物理剝離技術(shù)結(jié)合,確保部件表面潔凈度達(dá)到納米級(jí)工藝要求,同時(shí)避免電性能衰減或機(jī)械損傷,適用于先進(jìn)封裝、5G通信、物聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域的精密清洗需求。
精準(zhǔn)清洗工藝
多槽分段清洗:采用酸洗、堿洗、水洗、超純水沖洗等模塊化設(shè)計(jì),可針對(duì)不同污染物(如光刻膠、焊錫殘留、氧化層)定制清洗流程。例如,使用緩沖氧化刻蝕液(BOE)去除硅基EPC部件表面的氧化膜,或通過(guò)稀氟酸處理金屬互聯(lián)區(qū)域的腐蝕產(chǎn)物。
超聲波空化技術(shù):高頻超聲波(40kHz)強(qiáng)化清洗液滲透能力,有效剝離微小顆粒(≤0.1μm)和頑固殘留物,尤其適用于窄間隙、深孔結(jié)構(gòu)的EPC器件。
溫度與濃度閉環(huán)控制:實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)清洗液溫度(±0.5℃)、pH值及流速,自動(dòng)調(diào)節(jié)加熱或補(bǔ)充化學(xué)劑,避免因參數(shù)波動(dòng)導(dǎo)致部件腐蝕或清洗不徹底。
無(wú)損保護(hù)設(shè)計(jì)
柔性?shī)A持系統(tǒng):采用硅膠或PTFE材質(zhì)夾具,避免機(jī)械應(yīng)力損傷EPC部件的脆性材料(如氮化硅、氧化鋁)。
無(wú)接觸干燥:真空冷凍干燥(-40℃至常溫)替代高溫烘干,防止熱敏感器件(如MEMS傳感器)因熱膨脹變形或功能失效。
顆粒抑制技術(shù):清洗槽內(nèi)嵌微濾裝置(過(guò)濾精度0.2μm),杜絕外部顆粒二次污染,確保清洗后表面潔凈度達(dá)到Class 5標(biāo)準(zhǔn)。
智能化與安全控制
人機(jī)交互界面:10英寸觸摸屏內(nèi)置多種預(yù)設(shè)程序(如光刻膠清洗、焊后清潔、氧化層去除),支持參數(shù)自定義與工藝存儲(chǔ),操作無(wú)需專業(yè)培訓(xùn)。
數(shù)據(jù)追溯系統(tǒng):記錄每次清洗的時(shí)間、溫度、液位及耗材用量,生成可視化報(bào)告,便于質(zhì)量管控與工藝優(yōu)化。
安全防護(hù)機(jī)制:酸堿槽體采用雙層PFA涂層,耐氫氟酸、強(qiáng)堿腐蝕;廢氣處理系統(tǒng)(活性炭吸附+催化燃燒)凈化揮發(fā)性氣體,避免操作人員暴露風(fēng)險(xiǎn)。
高兼容性:適配不同尺寸EPC部件(如射頻濾波器、功率模組、傳感器陣列),支持單件或批量清洗(≥50片/批次)。
低損耗率:清洗后部件電性能衰減<1%,表面粗糙度增加<0.5nm,滿足高端封裝可靠性要求。
節(jié)能環(huán)保:水循環(huán)系統(tǒng)重復(fù)利用清洗液,化學(xué)劑消耗量降低30%;熱能回收裝置減少能源消耗,符合綠色制造標(biāo)準(zhǔn)。
長(zhǎng)壽命設(shè)計(jì):核心部件(如超聲波振子、耐腐蝕泵)采用鈦合金或陶瓷材質(zhì),設(shè)備無(wú)故障運(yùn)行時(shí)間≥3000小時(shí)。
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