粉體行業在線展覽
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氣相沉積設備ATS500
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北京創世杰科技發展有限公司
北京
面議
創世杰
氣相沉積設備ATS500
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ATS 500設計用于OLED、有機電子應用、光伏、半導體器件、透鏡和光學濾波器的研發和小批量生產。
系統特色是配有全彩觸摸屏的PLC，集成了工藝菜單控制和數據記錄功能，可以選配全電腦控制。
ATS 500提供廣泛的工藝選項，包括：
熱阻蒸發源。
溫度控制蒸發源，用于OLED和有機光伏應用。
電子束蒸發源，用于高速率蒸發。
離子束輔助，用于光學應用或者基板清洗。
DC、RF和脈沖DC源，用于金屬和電解質向上或者向下的濺射工藝。
以上兩個或者多個功能的混合系統
MPCVD微波等離子體化學氣相沉積系統
氣相沉積設備ATS500
反應離子刻蝕PECVD系統
化學氣相沉積PECVD系統
方腔式電子束蒸發鍍膜設備
4900/5700型電子束蒸發鍍膜系統
微波等離子體化學氣相沉積系統MPCVD
真空共晶回流焊爐
AF8500 自動平行封焊機
SM8500 手動平行封焊機
Projection 激光封焊儲能焊機
手套箱系列
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
