粉體行業(yè)在線展覽
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化學(xué)氣相沉積PECVD系統(tǒng)
直接聯(lián)系
北京創(chuàng)世杰科技發(fā)展有限公司
北京
面議
創(chuàng)世杰
化學(xué)氣相沉積PECVD系統(tǒng)
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Orion III等離子增強型化學(xué)汽相沉積(PECVD)
Orion III等離子增強型化學(xué)汽相沉積(PECVD)系統(tǒng)可適用于單個基片、碎片或帶承片盤的基片(2”- 300mm尺寸)，為實驗室和試制線生產(chǎn)提供先進的沉積能力。
Orion III系統(tǒng)用于非發(fā)火PECVD工藝。沉積薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物和無定形硅。工藝氣體：<20%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧和氮。
該設(shè)備可選配一個ICP或三極管（Triode）源。三極管使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而控制薄膜應(yīng)力。
通過打開室蓋，直接將基片裝入工藝室。
MPCVD微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
氣相沉積設(shè)備ATS500
反應(yīng)離子刻蝕PECVD系統(tǒng)
化學(xué)氣相沉積PECVD系統(tǒng)
方腔式電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
4900/5700型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MPCVD
真空共晶回流焊爐
AF8500 自動平行封焊機
SM8500 手動平行封焊機
Projection 激光封焊儲能焊機
手套箱系列
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
