粉體行業在線展覽
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
面議
北京泰科諾
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
988
設備名稱:熱絲 CVD 金剛石膜沉積設備
設備型號:HF450
真空腔室結構:立式前開門結構,后置抽氣系統,雙層水冷
真空腔室尺寸:Φ450mmxH500mm
真空系統:復合分子泵高真空系統
基片臺尺寸:Φ100mm
襯底溫度:600 ~ 1100℃
電源:專用熱絲電源 400A, 恒流或恒功率模式
氣路控制:4 路氣體流量控制
控制方式:PLC 觸摸屏控制
占地面積:主機 L1200mm×W1060mm×H1900mm
總功率:≥ 20kW
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